镀层致密、均匀:由于真空环境的存在,避免了空气和其他杂质的干扰,使得镀层更加致密、均匀。
镀层光滑:纳米级的镀层具有极高的表面光洁度,能够显著提高材料的表面性能。
镀层材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,以及合金、陶瓷甚至金刚石等多种材料。
可设计性强:可以根据需要设计涂层体系,以满足不同领域的应用需求。
真空镀膜:
蒸发镀膜:在真空室内,通过加热使镀膜材料蒸发并沉积到基材表面。
溅射镀膜:利用高能粒子轰击靶材,使靶材表面的原子或分子被溅射出来并沉积到基材表面。
离子镀膜:在真空室内,通过电离气体产生离子,然后利用离子轰击镀膜材料,使其蒸发并沉积到基材表面。
纳米镀膜:利用纳米技术,在真空或非真空环境中,将纳米级材料沉积到基材表面,形成纳米级薄膜。
非真空镀膜:如电镀,通过在含有欲镀金属的盐类溶液中,利用电解原理使镀层金属在待镀工件表面被还原并沉积下来。
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